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J-GLOBAL ID:200901028006942571   Update date: Aug. 02, 2022

Kakiuchi Hiroaki

カキウチ ヒロアキ | Kakiuchi Hiroaki
Affiliation and department:
Homepage URL  (1): http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp
Research field  (2): Electric/electronic material engineering ,  Thin-film surfaces and interfaces
Research theme for competitive and other funds  (33):
  • 2010 - 超薄型結晶Si太陽電池の製造を可能とする大気圧プラズマ高速成膜技術の開発
  • 2010 - 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発
  • 2010 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発
  • 2009 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発
  • 2009 - 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発
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Papers (212):
  • Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Hiromasa Ohmi. Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3-27 kPa. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2022. 40. 3. 032801-032801
  • Kazushi Yoshida, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake, Hiroaki Kakiuchi. Formation of indium nitride nanostructures by atmospheric pressure plasma nitridation of molten indium. Journal of Applied Physics. 2021. 130. 6. 063301-063301
  • Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake. Gas-phase kinetics in atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon films. Journal of Applied Physics. 2021. 130. 5. 053307-053307
  • Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake, Hiroaki Kakiuchi. Diffusion of excessively adsorbed hydrogen atoms on hydrogen terminated Si(100)(2×1) surface. AIP Advances. 2021. 11. 8. 085318-085318
  • Kiyoshi Yasutake, Kazushi Yoshida, Hiromasa Ohmi, Hiroaki Kakiuchi. Plasma parameters in very high frequency argon plasmas mixed with nitrogen at atmospheric pressure. Journal of Applied Physics. 2021. 129. 17. 173302-173302
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MISC (140):
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Patents (16):
  • 大気圧水素プラズマを用いた膜製造方法、精製膜製造方法及び装置
  • プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法,ガス発生装置及びガス発生方法, 並びに,フッ素含有高分子廃棄物処理方法
  • 透明導電膜の成膜装置および形成方法
  • エピタキシャルSi膜の製造方法およびプラズマ処理装置
  • 成膜装置
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Books (16):
  • Atmospheric-pressure plasma technologies and their applications for thin film deposition
    2014
  • Monthly DISPLAY
    2013
  • 大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著)
    株式会社オプトロニクス社 2012
  • 大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著)
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2012 ISBN:9784864280396
  • 大気圧プラズマの技術とプロセス開発
    シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781304076
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Works (4):
  • グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
    2008 -
  • Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
    2008 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
Education (5):
  • - 1991 Osaka University
  • - 1991 Osaka University
  • - 1991 Osaka University
  • - 1989 Osaka University
  • - 1989 Osaka University Department of Precision Engineering
Professional career (2):
  • master of Engineering (Osaka University)
  • Doctor of Engineering (Osaka University)
Work history (10):
  • 2020/04/01 - 現在 Osaka University Graduate School of Engineering . Associate Professor
  • 2001/08 - 現在 大阪大学大学院工学研究科助教授
  • 1998/04 - 現在 大阪大学大学院工学研究科助手
  • 1991/04 - 現在 大阪大学工学部助手
  • 2007/04/01 - 2020/03/31 Osaka University Graduate School of Engineering Division of Precision Science & Technology and Applied Physics Associate Professor
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Awards (5):
  • 2015/11 - Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology Poster award of excellence
  • 2004/03 - 社団法人精密工学会 精密工学会沼田記念論文賞
  • 2003/10 - 精密工学会 2003年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞「機能性薄膜」
  • 1994 - 1994年度精密工学会 関西支部講演論文賞
  • 1992/08 - 精密工学会 精密工学会関西支部講演論文賞
Association Membership(s) (2):
The Japan Society of Applied Physics ,  The Japan Society for Precision Engineering
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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