Rchr
J-GLOBAL ID:200901063361008375   Update date: Aug. 20, 2022

Tomohisa Mizuno

Tomohisa Mizuno
Affiliation and department:
Job title: Professor
Homepage URL  (1): https://www.sci.kanagawa-u.ac.jp/math-phys/mizuno/
Research field  (2): Nanostructure physics ,  Electrical power engineering
Research theme for competitive and other funds  (10):
  • 2004 - 現在 新機能半導体基板の開発と,ナノ領域での半導体素子の研究/開発及びその電子輸送現象の解明
  • 2004 - 現在 新機能半導体基板の開発と,ナノ領域での半導体素子の研究/開発及びその電子輸送現象の解明
  • 2018 - 2021 PN接合内蔵電位依存少数キャリヤ再結合欠陥調査及び解析の研究
  • 2017 - 2020 炭素ホットイオン注入法を用いた二次元シリコンカーバイド及びグラフェンの基盤研究
  • 2013 - 2016 金属仕事関数誘起高効率シリコンソーラーセルの研究
Show all
Papers (164):
more...
Patents (35):
  • 半導体装置及びその製造方法
  • 電界効果トランジスタ及びこれを用いた集積化論理回路
  • 半導体装置及びその製造方法
  • 半導体装置
  • 半導体装置
more...
Lectures and oral presentations  (102):
  • 多結晶SiとアモルファスSi基板への ホットC+イオン注入法によるSiCナノドットの形成
    (第79回応用物理学会秋季学 術講演会 2018)
  • バルクSi基板中のSiCナノドットサイズのプロセス依存性
    (第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018)
  • SiC Dots in Amorphous-Si and Poly-Si Substrates Fabricated by Hot-C+ -Ion Implantation
    (International Conference on Solid State Devices and Materials 2018)
  • SiC Nano-Dot Controlled by Hot-C+-Ion Implantation Conditions in Bulk-Si Substrate for Photonic Devices
    (IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW) 2018)
  • SiC Nano-Dots in Bulk-Si SubstrateFabricated by Hot-C+-Ion Implantation Technique
    (SSDM 2017)
more...
Works (30):
  • 12万倍に増えた!進化する記録メディア
    2007 -
  • (110)面ひずみ及び無ひずみ素子における正孔移動度特性
    2004 -
  • 高性能ひずみSOI-CMOS素子
    水野智久, 杉山直治, 手塚勉, 沼田敏典, 高木信一 2002 -
  • SiGe2層構造化によるひずみSOI-MOSFETの正孔移動度向上
    2001 -
  • ITOX法を用いた高品質/応力緩和SGOI基板技術
    2001 -
more...
Education (3):
  • 1981 - 1982 名古屋大学大学院 理学研究科 宇宙理学専攻
  • 1979 - 1981 名古屋大学大学院 理学研究科 宇宙理学専攻
  • 1974 - 1979 Nagoya University School of Science Department of Physics
Professional career (2):
  • 修士 (名古屋大学大学院)
  • 工学博士 (名古屋大学)
Work history (3):
  • 2008/07 - 2013/03 産業技術総合研究所 客員研究員
  • 2004/04 - 2008/03 産業技術総合研究所 客員研究員
  • 1999/04 - 2008/03 Lecturer
Awards (8):
  • 2014/09 - SSDM Award
  • 2004/12 - IEEE Electron Devices Society George Smith Award
  • 2004/03 - MIRAIプロジェクト優秀賞受賞(ひずみSOI素子の移動度決定に対して)
  • 2004/02 - IEEE-ISSCC Takuo Sugano Award受賞(ひずみSOI技術に対して)
  • 2003/04 - MIRAIプロジェクト最優秀賞受賞(ひずみSOIのCMOS回路実証に対して)
Show all
Association Membership(s) (4):
日本応用物理学会 ,  IEEE ,  日本物理学会 ,  AIP
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

Return to Previous Page