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J-GLOBAL ID：200902007504213923   Reference number：92A0832009

Fluctuation of structure in a-Si measured by TOF. I.

TOFによるa-Si内の構造のゆらぎの測定 I

Author (5)： NOZAKI KAORU (日本大 文理) ,  MURAYAMA KAZURO (日本大 文理) ,  OEDA HIDETOSHI (電総研) ,  MATSUDA AKIHISA (電総研) ,  GANGULY G (電総研)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 53rd  Issue： 2  Page： 735  Publication year： Sep. 1992 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (3)： TOF ,  Si ,  ゆらぎ