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J-GLOBAL ID：200902008549606426   Reference number：84A0383513

Gas-phase-functionalized plasma-developed resists: Initial concepts and results for electron-beam exposure.

気相機能化プラズマ現像レジスト 電子線露光の初期概念と結果

Author (3)： TAYLOR G N (AT&T, New Jersey) ,  STILLWAGON L E (AT&T, New Jersey) ,  VENKATESAN T (AT&T, New Jersey)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 131  Issue： 7  Page： 1658-1664  Publication year： Jul. 1984 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： resist ,...
Semi thesaurus term： reactive ion etching

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other reactions of polymer  (CG03040H)

Terms in the title (7)： 気相 ,  プラズマ ,  現像 ,  レジスト ,  電子線露光 ,  初期 ,  概念