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J-GLOBAL ID：200902010574351062   Reference number：89A0589042

Effect of N₂/TiCl flow rate ratio on the characteristics of TiN overlayer by plasma CVD method.

プラズマCVD法によるTiN被覆層の特性におよぼすN₂/TiCl₄流量比の影響

Author (3)： FUJITA HIRONORI (豊田中研) ,  OGURI KAZUYUKI (豊田中研) ,  ARAI TOORU (豊田中研)
Material： 金属表面技術協会講演大会講演要旨集  (金属表面技術協会学術講演大会講演要旨集)
Volume： 77th  Page： 94-95  Publication year： Mar. 1988 
JST Material Number： Y0050A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

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JST classification (2)： Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V) ,  Vapor plating  (WC08022K)

Terms in the title (4)： プラズマCVD法 ,  TiN被覆層 ,  N2 ,  流量比