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J-GLOBAL ID：200902011331592688   Reference number：92A0553899

Two different low friction mechanisms of diamond-like carbon with silicon coatings formed by plasma-assisted chemical vapor deposition.

プラズマ支援化学蒸着により形成したけい素を含むダイアモンド様炭素被覆の2つの異なった低摩擦機構

Author (2)： OGURI K (Toyota Central Research and Development Lab., Aichi-ken, JPN) ,  ARAI T (Toyota Central Research and Development Lab., Aichi-ken, JPN)
Material： Journal of Materials Research  (J Mater Res)
Volume： 7  Issue： 6  Page： 1313-1316  Publication year： Jun. 1992 
JST Material Number： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： silica ,...

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JST classification (2)： Vapor plating  (WC08022K) ,  Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V)

Terms in the title (5)： プラズマ支援化学蒸着 ,  けい素 ,  ダイアモンド ,  炭素被覆 ,  低摩擦