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J-GLOBAL ID：200902014213696915   Reference number：86A0353911

Infrared spectroscopy of oxide layers on technical Si wafers.

Siウエハ上の酸化物層の赤外分光による研究

Author (5)： GROSSE P (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany) ,  HARBECKE B (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany) ,  HEINZ B (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany) ,  MEYER R (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany) ,  OFFENBERG M (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
Material： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Solids and Surfaces)
Volume： 39  Issue： 4  Page： 257-268  Publication year： Apr. 1986 
JST Material Number： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： oxide film ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Infrared spectra,Raman scattering and Raman spectra of inorganic compounds  (BM08063C)

Terms in the title (4)： Siウエハ ,  酸化物層 ,  赤外分光 ,  研究