Art

J-GLOBAL ID：200902016803518632   Reference number：91A0607213

Design and Verification of Nearly Ideal Flow and Heat Transfer in a Rotating Disk Chemical Vapor Deposition Reactor.

回転円盤型化学蒸着反応器におけるほぼ理想的な流れおよび熱伝導の設計と証明

Author (2)： BREILAND W G (Sandia National Lab., New Mexico) ,  EVANS G H (Sandia National Lab., California)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 138  Issue： 6  Page： 1806-1816  Publication year： Jun. 1991 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,...
Semi thesaurus term： heat conduction ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (7)： 回転円盤 ,  化学蒸着 ,  反応器 ,  流れ ,  熱伝導 ,  設計 ,  証明