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J-GLOBAL ID：200902018374797237   Reference number：81A0025414

Gas phase composition in the low pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide.

SiO₂の低圧CVDでの気相組成

Author (3)： TOBIN P J (Motorola, Arizona) ,  PRICE J B (Motorola, Arizona) ,  CAMPBELL L M (Motorola, Arizona)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 127  Issue： 10  Page： 2222-2227  Publication year： Oct. 1980 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon dioxide ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Noncatalytic gas phase reactions  (CB06050Y)

Terms in the title (5)： SiO2 ,  低圧 ,  CVD ,  気相 ,  組成