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J-GLOBAL ID：200902023460480940   Reference number：89A0065261

Special issue on semiconductor process technology by excimer laser. II. Laser induced etching.

特集:エキシマレーザによるプロセシング技術 II レーザエッチング

Author (1)： HIROSE MASATAKA (広島大 工)
Material： 電気学会誌  (電気学会雑誌)
Volume： 108  Issue： 11  Page： 1081-1085  Publication year： Nov. 1988 
JST Material Number： F0011A  ISSN： 1340-5551  CODEN： DGZAAW  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： excimer laser ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (16)：

• (1) M. Sekine, H. Okano & Y. Horiike: Jpn. J. Appl. Phy. 25, 1944 (1986)
• (2) G. S. Oehrlein: Proc. of 1986 Dry Process Symposium, Tokyo p. 59 (1986)
• (3) M. Sekine, T. Arikado, H. Okano & Y. Horiike: Proc. of 1986 Dry Process Symposium, Tokyo p. 42 (1986) Y. Horiike, H. Okano, T. Yamazaki & H. Horie: Jpn. J. Appl. Phys. 20, L817 (1981)
• (4) S. Tachi, K. Tsujimoto & S. Okudaira: Appl. Phys. left. 52, 616 (1988)
• (5) M. Sekine, H. Okano, Y. Yamabe, N. Hayasaka & Y. Horiike: 1985 Symposium on VLSI Technology, Digest of Technical Papers p. 82 (1985)

Terms in the title (3)： エキシマレーザ ,  プロセシング ,  レーザエッチング