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J-GLOBAL ID：200902027117733707   Reference number：89A0347288

Plasma source ion implantation dose uniformity of a 2×2 array of spherical targets.

2×2個球ターゲットのプラズマ源イオン注入ドーズの均一性

Author (4)： CONRAD J R (Univ. Wisconsin, WI, USA) ,  BAUMANN S (Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA) ,  FLEMING R (Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA) ,  MEEKER G P (Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 65  Issue： 4  Page： 1707-1712  Publication year： Feb. 15, 1989 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ion implantation ,...

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JST classification (1)： Irradiational changes in properties and structures in general  (BK16121W)

Terms in the title (3)： ターゲット ,  プラズマ源イオン注入 ,  均一性