Art

J-GLOBAL ID：200902035014485562   Reference number：88A0419653

Progress in deep-etch synchrotron radiation lithography.

デープエッチシンクロトロン放射リソグラフィーの進歩

Author (8)： EHRFELD W (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  BLEV P (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  GOETZ F (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  MOHR J (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  MUENCHMEYER D (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  SCHELB W (Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  BAVING H J (Degussa AG, Hanau, DEU) ,  BEETS D (Nederlandse Philips Bedrijven, Eindhoven, NLD)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 6  Issue： 1  Page： 178-182  Publication year： Jan. 1988 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： X-ray irradiation ,...
Semi thesaurus term： crosslinking

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  X-ray instruments and techniques  (BA02060D)

Terms in the title (2)： 放射 ,  リソグラフィー