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J-GLOBAL ID：200902046241535713   Reference number：86A0485972

Optical and electrical properties of amorphous SiC:H prepared by magnetron sputtering.

マグネトロンスパッタ法によって作製したアモルファスSiC:Hの光学的,電気的特性

Author (5)： SAITO NOBUO (静岡大電子工研) ,  TANAKA NORIHIKO (静岡県工技セ) ,  YAMADA TAKESHI (静岡大電子工研) ,  NAKAAKI ISAMU (静岡県工技セ) ,  YAMAGUCHI TOMUO (静岡大電子工研)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 29  Issue： 6  Page： 251-258  Publication year： Jun. 1986 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： silicon carbide ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (29)：

• 1) D. A. Anderson and W. E. Spear : Philos. Mag. 35 (1977) 1.
• 2) R. S. Sussmann and R. Ogden : Philos. Mag. B 44 (1981) 137.
• 3) J. Bullot, M. Gauthier, M. Schmidt, Y. Catherine and A. Zamouche : Philos. Mag. B 49 (1984) 489.
• 4) Y. Tawada, K. Tsuge, M. Kondo, H. Okamoto and Y. Hamakawa : J. Appl. Phys. 53 (1982) 5273.
• 5) T. Ichimura, Y. Uchida, K. Yamada, M. Ohsawa and S. Ishida : J. Non-Cryst. Solids 59 & 60 (1983) 557.

Terms in the title (6)： マグネトロンスパッタ法 ,  作製 ,  アモルファス ,  SiC ,  光学 ,  電気的特性