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J-GLOBAL ID：200902072697966822   Reference number：85A0129080

Radical-molecule and ion-molecule mechanisms in the polymerization of hydrocarbons and chlorosilanes in r.f. plasmas at low pressures (below 1.0 Torr)

低圧(1.0Torr以下)の高周波プラズマ中での炭化水素または塩化けい素の重合反応におけるラジカル-分子及びイオン-分子反応機構

Author (4)： AVNI R (Lewis Research Center, National Aeronautics and Space Administration, OH) ,  CARMI U (Nuclear Research Centre Negev, Israel) ,  INSPEKTOR A (Nuclear Research Centre Negev, Israel) ,  ROSENTHAL I (Nuclear Research Centre Negev, Israel)
Material： Thin Solid Films
Volume： 118  Issue： 2  Page： 231-241  Publication year： Aug. 10, 1984 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Carbon ,...
Semi thesaurus term： propylene

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (8)： 低圧 ,  高周波プラズマ ,  炭化水素 ,  塩化けい素 ,  重合反応 ,  ラジカル ,  分子 ,  イオン-分子反応