Art

J-GLOBAL ID：200902084299388060   Reference number：91A0553747

Chemical Amplification Mechanisms for Microlithography.

マイクロリソグラフィーの化学増幅機構

Author (4)： REICHMANIS E (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  HOULIHAN F M (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  NALAMASU O (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  NEENAN T X (AT&T Bell Lab., New Jersey)
Material： Chemistry of Materials  (Chem Mater)
Volume： 3  Issue： 3  Page： 394-407  Publication year： May. 1991 
JST Material Number： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： lithography ,...
Semi thesaurus term： photocrosslinking ,...

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JST classification (3)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Photochemical reactions  (CB08020F) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： マイクロリソグラフィー ,  化学 ,  増幅