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J-GLOBAL ID：200902084960198914   Reference number：91A0607207

Application of Chemical Mechanical Polishing to the Fabrication of VLSI Circuit Interconnections.

VLSI回路内部接続製作に対する化学的機械的研磨の応用

Author (4)： PATRICK W J (IBM General Technology Division, New York) ,  GUTHRIE W L (IBM General Technology Division, New York) ,  STANDLEY C L (IBM General Technology Division, New York) ,  SCHIABLE P M (IBM General Technology Division, New York)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 138  Issue： 6  Page： 1778-1784  Publication year： Jun. 1991 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： VLSI ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： VLSI回路 ,  製作 ,  化学的機械的研磨 ,  応用