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J-GLOBAL ID：200902086463608494   Reference number：92A0119140

Application of Penta-Di-Methyl-Amino-Tantalum to a Tantalum Source in Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide Films.

酸化タンタル膜の化学蒸着におけるタンタル源としてのペンタ-ジメチル-アミノ-タンタルの適用

Author (4)： TABUCHI T (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  SAWADO Y (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  UEMATSU K (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  KOSHIBA S (Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 30  Issue： 11B  Page： L1974-L1977  Publication year： Nov. 15, 1991 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： tantalum oxide ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： 酸化 ,  タンタル膜 ,  化学蒸着 ,  タンタル ,  ペンタ ,  ジメチル