Art

J-GLOBAL ID：200902087442513414   Reference number：86A0161921

Air bearing guided XY stage for X-ray lithography system. (1) Configuration of XY stage.

X線露光装置用空気浮上式XYステージ I ステージ構成と位置決めの高速化について

Author (3)： TSUJI MICHIO (立石電機中研) ,  SUGIYAMA SADAO (立石電機中研) ,  NITTO KOJI (立石電機中研)
Material： Omron Technics  (Omron Tech)
Issue： 76  Page： 285-291  Publication year： Dec. 28, 1985 
JST Material Number： S0266A  ISSN： 0474-1315  CODEN： OMTKA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： circuit pattern generation ,...

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JST classification (2)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： X線 ,  露光装置 ,  浮上 ,  XYステージ ,  ステージ ,  高速化