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J-GLOBAL ID：200902087558992344   Reference number：88A0098734

Ablation and etching of polymethylmethacrylate by very short (160fs) ultraviolet (308nm) laser pulses.

極めて短い(160fs)紫外(308nm)レーザパルスによるポリメタクリル酸メチルのアブレーション及びエッチング

Author (3)： SRINIVASAN R (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA) ,  SUTCLIFFE E (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA) ,  BRAREN B (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 51  Issue： 16  Page： 1285-1287  Publication year： Oct. 19, 1987 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Polymethyl Methacrylate ,...

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JST classification (1)： Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Terms in the title (4)： レーザパルス ,  ポリメタクリル酸メチル ,  アブレーション ,  エッチング