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J-GLOBAL ID：200902091387886742   Reference number：90A0919324

The growth of high purity aluminum by molecular beam CVD and the suppression of the growth by the irradiation of synchrotron radiation.

分子線CVDによる高純度Al成長とシンクロトロン放射光による成長抑制効果

Author (2)： UESUGI FUMIHIKO (日本電気 光エレクトロニクス研) ,  NISHIYAMA IWAO (日本電気 光エレクトロニクス研)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 51st  Issue： 2  Page： 505  Publication year： Sep. 1990 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (7)： 分子線 ,  CVD ,  高純度 ,  Al ,  成長 ,  シンクロトロン放射光 ,  抑制効果