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J-GLOBAL ID：200902099153619490   Reference number：91A0279664

Identification of the first nucleated phase in the interfacial reactions of ultrahigh vacuum deposited titanium thin films on silicon.

シリコン上超高真空蒸着チタン薄膜の界面反応の最初の核形成相の確認

Author (2)： WANG M H (National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN) ,  CHEN L J (National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 58  Issue： 5  Page： 463-465  Publication year： Feb. 04, 1991 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： solid phase reaction ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (6)： シリコン ,  超高真空 ,  蒸着 ,  チタン薄膜 ,  界面反応 ,  核形成