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J-GLOBAL ID：200902101380181498   Reference number：01A0508619

Fabrication and electric properties of LaCoO₃ thin films by ion-beam sputtering.

イオンビームスパッタリングによるLaCoO₃薄膜の作製及び電気特性

Author (5)： HATTORI T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUI T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUDA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MABUCHI H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MORII K (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 388  Issue： 1/2  Page： 183-188  Publication year： Jun. 01, 2001 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lanthanum compound ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X)

Terms in the title (5)： イオンビームスパッタリング ,  LaCoO3 ,  薄膜 ,  作製 ,  電気特性