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J-GLOBAL ID：200902102502887695   Reference number：02A0656585

Tritium release from synthetic silica glass prepared by vad method.

VAD法によって作製した石英ガラスからのトリチウム放出

Author (6)： NASU S (Kanazawa Inst. Technol. Nonoichi, Ishikawa, JPN) ,  MOON A (Kanazawa Inst. Technol. Nonoichi, Ishikawa, JPN) ,  TANIFUJI T (Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN) ,  JITSUKAWA S (Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN) ,  YAMANAKA M (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IZAWA Y (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： 大阪大学レーザー核融合研究センター共同研究成果報告書  (レーザー研シンポジウム共同研究成果報告書)
Volume： 2001  Page： 173-174  Publication year： Mar. 2002 
JST Material Number： J0876A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silica glass ,...
Semi thesaurus term： トリチウム

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JST classification (1)： Plasma devices  (BJ02082I)

Terms in the title (4)： VAD法 ,  作製 ,  石英ガラス ,  トリチウム放出