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J-GLOBAL ID：200902108719463786   Reference number：02A0865393

Industrial applications of TiO₂ and TiN films deposited by EBEP.

EBEPにより成長させたTiO₂およびTiN膜の工業的利用

Author (6)： HOMYARA H (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  IKEZAWA S (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  UMENO M (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  YOSHIMURA K (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN) ,  TAODA H (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN) ,  HARA T (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 2nd  Page： 159-164  Publication year： Oct. 10, 2002 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron beam ,...

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JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： 成長 ,  TiO2 ,  TiN膜 ,  工業