Art

J-GLOBAL ID：200902110093228474   Reference number：99A0190107

Effects of He on Cu film formation by rf sputtering.

rfスパッタリングによるCu薄膜形成へのHeの効果

Author (3)： KOYANAGI T (Yamaguchi Univ., Ube, JPN) ,  TAKAO K (Yamaguchi Univ., Ube, JPN) ,  FUKUMA Y (Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
Material： Vacuum
Volume： 51  Issue： 4  Page： 575-582  Publication year： Dec. 1998 
JST Material Number： E0347A  ISSN： 0042-207X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Copper ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (4)： RFスパッタリング ,  Cu ,  薄膜形成 ,  He