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J-GLOBAL ID：200902111655139131   Reference number：95A0568876

Diamond Film Formation Using RF CH3OH Plasma CVD Assisted by Microwave H2/H2O Plasma.

RF CH₃OHプラズマとμ波H₂/H₂Oプラズマを用いたダイヤモンド薄膜の形成 H₂O分圧依存性

Author (7)： MIZUNO ETSUKO (名城大 理工) ,  YAMADA KOJI (名城大 理工) ,  HIRAMATSU MINEO (名城大 理工) ,  NAWATA MASATO (名城大 理工) ,  IKEDA MASANOBU (名古屋大 工) ,  HORI MASARU (名古屋大 工) ,  GOTO TOSHIO (名古屋大 工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 42nd  Issue： Pt 2  Page： 372  Publication year： Mar. 1995 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (8)： RF ,  プラズマ ,  μ波 ,  H2 ,  H2O ,  ダイヤモンド薄膜 ,  分圧 ,  依存性