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J-GLOBAL ID：200902113142384729   Reference number：00A0160712

Utilization of database/simulation program for material process design.

半導体材料・プロセスの物理と設計 設計のためのデータベース/シミュレーションプログラムの利用

Author (1)： GONDA SHUN'ICHI (大阪大 産科研)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 69  Issue： 1  Page： 68-72  Publication year： Jan. 10, 2000 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *semiconductor material ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (45)：

• 応用物理学会. 応用物理データブック. 1994
• 応用物理学会. 応用物理ハンドブック. 1990
• HELLWEGE, K. H. Landolt-Bornstein, New Series
• LIDE, D. R. Handbook of Chemistry & Physics, CRC net BASE 1999. 1999
• Handbook Series on Semiconductor Parameters. 1

Terms in the title (6)： 半導体材料 ,  プロセス ,  物理 ,  設計 ,  データベース ,  シミュレーションプログラム