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J-GLOBAL ID：200902115783827798   Reference number：99A0577427

Effects of titanium and aluminum incorporations on the structure of boron nitride thin films.

窒化ほう素薄膜の構造に対するチタンとアルミニウムの導入効果

Author (6)： KOLITSCH A (Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU) ,  WANG X (Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU) ,  MANOVA D (Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU) ,  FUKAREK W (Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU) ,  MOELLER W (Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU) ,  OSWALD S (IFW Dresden, Dresden, DEU)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 8  Issue： 2/5  Page： 386-390  Publication year： Mar. 1999 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *boron nitride ,...

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JST classification (2)： Materials of solid-state devices  (NC03020K) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (5)： 窒化ほう素 ,  薄膜 ,  チタン ,  アルミニウム ,  導入効果