Art

J-GLOBAL ID：200902117057927239   Reference number：01A0877232

Formation of Nanosized Rodlike Ni Clusters by Electrodeposition on H-Terminated Si(111) Surfaces.

H-端末Si(111)表面上に電極析出によるナノサイズ棒状Niクラスタの調製

Author (3)： IMANISHI A (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORISAWA K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAKATO Y (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochem Solid-State Lett)
Volume： 4  Issue： 9  Page： C69-C72  Publication year： Sep. 2001 
JST Material Number： W1290A  ISSN： 1099-0062  CODEN： ESLEF6  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,...

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Electrochemical reaction  (CB07050F)

Terms in the title (6)： Si ,  析出 ,  ナノサイズ ,  Ni ,  クラスタ ,  調製