Art

J-GLOBAL ID：200902117964071680   Reference number：93A0851229

NA and σ Optimization for High NA I-line Lithography.

Author (4)： YAMANAKA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  IWASAKI H (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  NOZUE H (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  KASAMA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 1927  Issue： Pt 1  Page： 310-319  Publication year： 1993 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (2)： Na ,  LINE