Art

J-GLOBAL ID：200902122089940630   Reference number：01A0552205

The effect of hydrogen- and oxygen-plasma treatments on dielectric properties of amorphous carbon nitride films.

非晶質窒化炭素膜の誘電特性への水素と酸素プラズマ処理による影響

Author (4)： AONO M (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  NARUSE Y (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  NITTA S (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  KATSUNO T (Gifu Univ., Gifu, JPN)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 10  Issue： 3/7  Page： 1147-1151  Publication year： Mar. 2001 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： amorphous state ,...
Semi thesaurus term： plasma treatment

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B)

Terms in the title (6)： 非晶質 ,  窒化 ,  炭素膜 ,  誘電特性 ,  水素 ,  酸素プラズマ