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J-GLOBAL ID：200902123843834872   Reference number：02A0223965

Preparation of Lead Chromate Crystalline Thin Films by RF-Magnetron Sputtering Method.

RFマグネトロンスパッタリング法を用いたクロム酸鉛結晶薄膜の作製

Author (4)： SUGA YOSHIHIKO (関東学院大) ,  HIRAMATSU TOMOYASU (関東学院大) ,  KANEKO FUMITAKA (湘南工科大) ,  NAMBA NORIYUKI (関東学院大)
Material： 日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
Volume： 110  Issue： 1278  Page： 98-101  Publication year： Feb. 01, 2002 
JST Material Number： F0382A  ISSN： 0914-5400  CODEN： JCSJEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： RF sputtering ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (7)：

• NANTOU, Y. Sensa or Kisogijyutu. 1994, 86-90
• YAGI, H. J. Ceram. Soc. Japan. 1992, 100, 152-156
• The Institute of Electrical Engineers of Japan. Sensing Materials-A Basis and Application-. 2000, 101-103
• KANEKO, F. 2000 Autumn JSAP Annual Meeting. 2000
• KANEKO, F. IEEE Japan. 1992, 112-C, 12, 788-792

Terms in the title (5)： RFマグネトロンスパッタリング ,  クロム酸鉛 ,  結晶 ,  薄膜 ,  作製