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J-GLOBAL ID：200902124053895568   Reference number：93A0398534

Special Issue on Nanometer-scale Machining and Processing Technology - From the Viewpoint of Chemical/Physical Reaction on Surfaces. Nanometer Scale Depositions.

特集 ナノメータスケールの加工技術 加工界面での化学/物理反応に着目して ナノメータスケールの薄膜形成技術

Author (1)： MIYAKE SHOJIRO (日本工大)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 59  Issue： 4  Page： 563-567  Publication year： Apr. 1993 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： vapor deposition ,...

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JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (26)：

• 1) 精密工学会編 : 精密工作便覧, コロナ社, (1992) 1028-1193.
• 2) 精密工学会表面改質分科会編 : 表面改質-プラズマプロセス, 日刊工業新聞社, (1988).
• 3) D. M. Mattox : Fundamentals of Ion Plating, J. Vac. Sci. Technol., 10, 1, (1973) 47.
• 4) R. F. Bunshan : The Activated Reactive Evapolation Process : Developments and Applications, Thin Solid Films, 80, (1981) 255.
• 5) J. A. Thorton : High Rate Thick Film Growth, Ann. Rev. Mat. Sci., 7, Annual Reviews, Inc., (1977) 239.

Terms in the title (5)： 界面 ,  化学 ,  物理 ,  着目 ,  薄膜形成技術