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J-GLOBAL ID：200902126752047982   Reference number：00A0492432

First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Etching Process by OH Molecules.

OH分子によるエッチング過程の第一原理分子動力学シミュレーション

Author (7)： GOTO H (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  HIROSE K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SUGIYAMA K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  INAGAKI K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KOBATA I (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TOYOTA H (Ehime Univ., Ehime, JPN)
Material： Technology Reports of the Osaka University  (大阪大学工学報告)
Volume： 50  Issue： 2366/2377  Page： 33-39  Publication year： Apr. 15, 2000 
JST Material Number： G0635A  ISSN： 0030-6177  CODEN： TROUA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *etching ,...

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JST classification (2)： Electron theory of adsorption  (CB12042Y) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 分子 ,  エッチング ,  過程 ,  第一原理分子動力学シミュレーション