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J-GLOBAL ID：200902130300523385   Reference number：01A0657348

Deposition of high quality CMR thin films by rf magnetron sputtering under pure argon gas.

純アルゴンガス下でのrfマグネトロンスパッタリングによる高品質CMR薄膜の堆積

Author (3)： TANG W H (Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN) ,  KAM T L (Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN) ,  GAO J (Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
Material： Materials Research Bulletin  (Mater Res Bull)
Volume： 36  Issue： 7/8  Page： 1463-1469  Publication year： May. 2001 
JST Material Number： B0954A  ISSN： 0025-5408  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lanthanum compound ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Magnetic properties of oxides  (BM06050E)

Terms in the title (4)： アルゴンガス ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  高品質 ,  堆積