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J-GLOBAL ID：200902133753559835   Reference number：97A0524477

RF Cold Plasma Applicable to Open Air Semiconductor processes.

大気中への非平衡RF放電の放出と半導体関連プロセスへの応用

Author (4)： KOINUMA HIDEOMI (東京工大) ,  HORIUCHI TAKAO (東京工大) ,  KOIDE MIYUKI (東京工大) ,  LEE B J (東京工大)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 44th  Issue： 0  Page： 1388  Publication year： Mar. 1997 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (6)： 大気中 ,  非平衡 ,  RF放電 ,  放出 ,  プロセス ,  応用