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J-GLOBAL ID：200902136903777762   Reference number：93A0661116

Negative hydrogenated silicon ion clusters as particle precursors in RF silane plasma deposition experiments.

rfシランプラズマ蒸着実験における粒子先駆体としての負の水素化けい素イオンクラスタ

Author (4)： HOWLING A A (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE) ,  SANSONNENS L (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE) ,  DORIER J-L (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE) ,  HOLLENSTEIN C (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 26  Issue： 6  Page： 1003-1006  Publication year： Jun. 14, 1993 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Reaction due to charged particle bombardment and electric discharge  (CB06020R)

Terms in the title (7)： RF ,  シラン ,  プラズマ蒸着 ,  実験 ,  先駆体 ,  水素化けい素 ,  イオンクラスタ