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J-GLOBAL ID：200902142125811842   Reference number：01A0398322

Thickness dependent electrical resistivity of ultrathin (<40nm) Cu films.

超薄(<40nm)Cu膜の膜厚依存電気抵抗率

Author (5)： LIU H-D (Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA) ,  ZHAO Y-P (Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA) ,  RAMANATH G (Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA) ,  MURARKA S P (Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA) ,  WANG G-C (Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
Material： Thin Solid Films
Volume： 384  Issue： 1  Page： 151-156  Publication year： Mar. 01, 2001 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *metallic thin film ,...

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Electronic conduction in metals in general  (BM03031E)

Terms in the title (3)： Cu ,  膜厚 ,  電気抵抗率