Art

J-GLOBAL ID：200902142128986392   Reference number：02A0698139

Self-Aligned Formation of Porous Silicon Membranes Using Si Diaphragm Structures.

Siダイヤフラム構造を利用したポーラスシリコン膜の自己整合形成

Author (6)： KOBAYASHI T (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  OHSAWA J (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  NAGATA S (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  HARA T (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  YAMAGUCHI N (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  YAMAGUCHI M (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 41  Issue： 8B  Page： L963-L965  Publication year： Aug. 15, 2002 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *self alignment ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (11)：

• 1) G. Lammel and Ph. Renaud: Sens. & Actuat. A 85 (2000) 356.
• 2) P. Steiner and W. Lang: Thin Solid Films 255 (1995) 52.
• 3) G. Lammel, S. Schweizer and P. Renaud: MEMS 2001 Tech. Dig., p. 578.
• 4) S. Barret, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller and I. Ronga: Sens. & Actuat. A 33 (1992) 19.
• 5) R. L. Smith and S. D. Collins: J. Appl. Phys. 71 (1992) R1.

Terms in the title (5)： Si ,  ダイヤフラム構造 ,  ポーラス ,  シリコン膜 ,  自己整合