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J-GLOBAL ID：200902144602634896   Reference number：00A0981834

Effect of He Ion Beam Irradiation on the ITO Films Prepared by IBS Method.

イオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜におけるHeイオンビーム照射効果

Author (6)： SUZAKI YOSHIFUMI (高松工高専) ,  SHIKAMA TOMOKAZU (高松工高専) ,  FUKUI SATOSHI (高松工高専) ,  HIGUCHI HIROSHI (高松工高専) ,  TANAKA OSAMU (大倉工業) ,  KAJITANI TAKAHIRO (大倉工業)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 66  Issue： 10  Page： 1616-1620  Publication year： Oct. 05, 2000 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *metallic thin film ,...
Semi thesaurus term： ITO薄膜 ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (12)：

• 1) H. Kobayashi, T. Ishida, Y. Nakato and H. Tsubomura:Mechanism of Carrier Transport in Highly Effcient Solar Cells Having Indium Tin Oxide/Si Junctions, J. Appl. Phys., 69,(1991)1736.
• 2) Hamberg and C. G. Granqvist: Evaporated Sn-doped In₂O₃ Films Basic Optical Properties and Applications to Energy-efficient Windows,J.Appl.Phys.,60,(1986)R123.
• 3) 重里有三, 安井至:ITO透明導電薄膜はここまで分かってきた,ニューセラミックス,4(1996)5.
• 4) S.Takaki K. Matsumoto and K. Suzuki: Properties of Highly Conducting ITO Films Prepared by Ion Plating,33/84,(1988)919.
• 5) C.H.Yi,I.Yasui and Y.Shigesato:Effects of Tin Concentrations on Structural Characteristics and Electro-optical Properties of Tin-doped Indium Oxide Films Prepared by RF Magnetron Sputtering,Jpn.J.Appl.Phys.,34,(1995)600.

Terms in the title (7)： イオンビームスパッタリング法 ,  ITO薄膜 ,  低温 ,  成膜 ,  He ,  イオンビーム ,  照射効果