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J-GLOBAL ID：200902145519168901   Reference number：95A0141777

SEM and TEM Study on Nanoleakage Pathway at the Adhesive Interface.

SEMおよびTEMを用いた接着界面の微小漏洩に関する研究

Author (9)： SANO HIDEHIKO (東京医歯大 歯) ,  YOSHIYAMA MASAHIRO (徳島大 歯) ,  NISHIDA HIROTAKE (東京医歯大 歯) ,  EBISU SHIGEYUKI (徳島大 歯) ,  TAKATSU TOSHIO (東京医歯大 歯) ,  CIUCCHI B (Univ. Geneva Dental School, Gen<span style=text-decoration:overline>e`</span>ve, CHE) ,  HORNER J A (Eisenhower Army Medical Center, Georgia, USA) ,  CARVALHO R M (Medical Coll. Georgia, Georgia, USA) ,  PASHLEY D H (Medical Coll. Georgia, Georgia, USA)
Material： 日本歯科保存学雑誌  (Japanese Journal of Conservative Dentistry)
Volume： 37  Issue： 6  Page： 1686-1693  Publication year： Dec. 1994 
JST Material Number： Y0096A  ISSN： 0387-2343  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： adhesion (bond) ,...
Semi thesaurus term： adhesive interface ,...

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JST classification (1)： Dental prosthetic materials  (GT06000B)

Terms in the title (6)： SEM ,  TEM ,  接着界面 ,  微小 ,  漏洩 ,  研究