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J-GLOBAL ID：200902146734129689   Reference number：01A0310660

Low density of defect states in hydrogenated amorphous carbon thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition.

プラズマ増強化学気相蒸着により成長した水素化非晶質カーボン薄膜中の欠陥状態の低密度

Author (7)： KRISHNA K M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  EBISU H (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HAGIMOTO K (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HAYASHI Y (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  SOGA T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  JIMBO T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  UMENO M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 78  Issue： 3  Page： 294-296  Publication year： Jan. 15, 2001 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *amorphous state ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (10)： プラズマ ,  増強 ,  化学 ,  気相蒸着 ,  成長 ,  水素化 ,  非晶質 ,  カーボン薄膜 ,  欠陥状態 ,  低密度