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J-GLOBAL ID：200902154318602106   Reference number：99A0935470

Preferred Alignment of Mesochannels in a Mesoporous Silica Film Grown on a Silicon (110) Surface.

けい素(110)表面上で成長したメソポーラスシリカ膜におけるメソチャネルの優先配列

Author (2)： MIYATA H (Canon Inc., Kanagawa, JPN) ,  KURODA K (Waseda Univ., Tokyo, JPN)
Material： Journal of the American Chemical Society  (J Am Chem Soc)
Volume： 121  Issue： 33  Page： 7618-7624  Publication year： Aug. 25, 1999 
JST Material Number： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...
Semi thesaurus term： *silica

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Other cleaning agents  (YG02040W)

Substance index (1)： Hexadecyltrimethylammonium chloride

Terms in the title (5)： けい素 ,  成長 ,  メソポーラス ,  シリカ膜 ,  優先