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J-GLOBAL ID：200902154445135266   Reference number：98A0868526

Effects of gas composition and r.f. power on properties of a-C:H/SiC:H composite films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition.

プラズマ増強化学蒸着で成長させたa-C:H/SiC:Hコンポジット膜の特性に対するガス組成とrfパワーの影響

Author (3)： YI J W (Drexel Univ., PA, USA) ,  LEE Y H (Drexel Univ., PA, USA) ,  FAROUK B (Drexel Univ., PA, USA)
Material： Thin Solid Films
Volume： 326  Issue： 1/2  Page： 154-159  Publication year： Aug. 04, 1998 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *thin film growth ,...
Semi thesaurus term： forbidden band ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (7)： プラズマ増強化学蒸着 ,  成長 ,  SiC ,  コンポジット膜 ,  ガス組成 ,  RF ,  パワー