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J-GLOBAL ID：200902155297480010   Reference number：96A0948016

Energy Analyses of Substrate-incident Ion on TiO2 Deposition by RF Magnetron Sputtering.

RFマグネトロンスパッタによるTiO₂薄膜作成における基板入射イオンのエネルギー分析

Author (3)： OKIMURA KUNIO (福井工高専) ,  MAEDA NAOHIRO (福井工高専) ,  SHIBATA AKIRA (福井工高専)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 57th  Issue： 1  Page： 21  Publication year： Sep. 1996 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (6)： RF ,  マグネトロンスパッタ ,  TiO2 ,  薄膜 ,  イオン ,  エネルギー分析