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J-GLOBAL ID：200902156119502529   Reference number：00A0710639

Preparation and properties of TiN and AlN films from alkoxide solution by thermal plasma CVD method.

熱プラズマCVD法によるアルコキシド溶液からTiN膜とAlN膜の作製および特性評価

Author (5)： SHIMADA S (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  YOSHIMATSU M (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  NAGAI H (Hokkaido National Industrial Res. Inst., Sapporo, JPN) ,  SUZUKI M (Hokkaido National Industrial Res. Inst., Sapporo, JPN) ,  KOMAKI H (JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 370  Issue： 1/2  Page： 137-145  Publication year： Jul. 17, 2000 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Substance index (2)： Tetraethoxytitanium(IV) ,  Tributoxyaluminum

Terms in the title (7)： プラズマCVD法 ,  アルコキシド ,  溶液 ,  TiN膜 ,  AlN ,  作製 ,  特性評価