Art

J-GLOBAL ID：200902156737658610   Reference number：98A0954861

New-type microwave plasma source excited by azimuthally symmetric surface waves with magnetic multicusp fields.

マルチカプス磁場を用いた方位対称表面波で励起した新しいマイクロ波プラズマ源

Author (2)： TUDA M (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  ONO K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 16  Issue： 5  Page： 2832-2839  Publication year： Sep. 1998 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma source ,...
Semi thesaurus term： *plasma treatment

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JST classification (2)： Plasma devices  (BJ02082I) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (6)： 磁場 ,  方位 ,  対称 ,  表面波 ,  励起 ,  マイクロ波プラズマ