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J-GLOBAL ID：200902157655547515   Reference number：94A0956681

高周波プラズマCVDによるフッ素含有酸化シリコン系薄膜の作製

Author (3)： KAKINOKI NOBUYUKI (名古屋大 工) ,  HOZUMI ATSUSHI (名古屋大 工) ,  TAKAI OSAMU (名古屋大 工)
Material： 表面技術協会講演大会講演要旨集
Volume： 90th  Page： 180  Publication year： Sep. 1994 
JST Material Number： Y0050A  ISSN： 0917-2947  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (6)： 高周波 ,  プラズマCVD ,  フッ素 ,  酸化シリコン ,  薄膜 ,  作製