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J-GLOBAL ID：200902158034699458   Reference number：99A0791573

Step and Flash Imprint Lithography: A New Approach to High-Resolution Patterning.

ステップおよびフラッシュインプリントリソグラフィ:高解像度パターニングへの新しいアプローチ

Author (9)： COLBURN M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  JOHNSON S (Univ. Texas at Austin, TX) ,  STEWART M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  DAMLE S (Univ. Texas at Austin, TX) ,  BAILEY T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  CHOI B (Univ. Texas at Austin, TX) ,  WEDLAKE M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  MICHAELSON T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  WILLSON C G (Univ. Texas at Austin, TX)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3676  Issue： Pt.1  Page： 379-389  Publication year： 1999 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (4)： フラッシュ ,  インプリントリソグラフィ ,  高解像度 ,  パターニング