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J-GLOBAL ID：200902159303365975   Reference number：02A0147067

SiOx Thin Film Deposition by Hollow Cathode Plasma Source.

ホローカソードプラズマ源によるSiOx成膜

Author (3)： OKIMOTO TADAO (神戸製鋼所) ,  KUMAKIRI TADASHI (神戸製鋼所) ,  TAMAGAKI HIROSHI (神戸製鋼所)
Material： 電気学会放電研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： ED-01  Issue： 263-278  Page： 55-57  Publication year： Dec. 11, 2001 
JST Material Number： Z0911A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *hollow-cathode discharge ,...

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JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (1)：

• THEIRICH, D. Surface and Coating Technology. 1996, 86-87, 628-633

Terms in the title (3)： ホローカソード ,  プラズマ源 ,  成膜